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光电所紫外深度光刻机获半导体创新产品和技术奖

近日,中国电子专用设备工业协会、中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会和《中国电子报》联合举办了2007年度中国半导体创新产品和技术奖评选。中科院光电所研发的URE-2000系列紫外深度光刻机在评选中脱颖而出,获得殊荣。 

    该系列产品在分辨力增强技术、掩模对准技术、均匀照明曝光技术、工件台技术、线条侧壁增陡技术等关键单元技术上取得了新的突破,尤其在深度光刻中具有特色,对开展微电子、微光学、微机械系统、红外器件、准LIGA及声表面波等器件的研制和生产具有广泛用途。产品以其领先的技术、突出的功能、可靠的品质和优质的服务,为国内外高等院校、科研单位、器件生产企业开展微细加工技术创新和生产提供了优良装备,受到国内外众多用户的青睐和好评,有力地促进了我国微细加工技术和产业的发展。产品远销朝鲜、新加坡、越南等国。 

    据悉,此次参选的创新产品和技术范围包括集成电路产品、集成电路制造技术、半导体器件、封装与测试技术、半导体设备与仪器、半导体材料。评选条件是产品必须拥有自主知识产权,具有创新性和先进性,产品或技术已经得到实际应用,并在产业化方面取得一定进展,研发主体为国内企事业单位。

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